Macleod軟件自帶的用戶(hù)手冊(cè)功能全面，其介紹涵蓋了軟件的方方面面，能夠使用戶(hù)快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而，為了順應(yīng)目前薄膜行業(yè)的需求，急需一本能夠契合軟件設(shè)計(jì)和實(shí)際加工需要的專(zhuān)業(yè)書(shū)籍，以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作，因此，我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》。
《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》（原著第二版）是世界著名光學(xué)薄膜專(zhuān)家Macleod先生40多年豐富工作經(jīng)驗(yàn)的總結(jié)，結(jié)合當(dāng)前市場(chǎng)占有率極高的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)與分析軟件Essential Macleod，其內(nèi)容豐富，實(shí)用性強(qiáng)。書(shū)中不僅有成熟的光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)、計(jì)算公式和分析方法，還有關(guān)于光學(xué)薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計(jì)、分析、制造等各方面問(wèn)題，如第8章中40個(gè)經(jīng)典案例分析。本書(shū)共設(shè)置21章節(jié)，首先，從光學(xué)薄膜的基本理論出發(fā)（第2章），為大家介紹了設(shè)計(jì)一個(gè)薄膜所必備的基礎(chǔ)知識(shí)。其次，在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作，以幫助大家在較短的時(shí)間快速熟悉軟件操作界面。最后，從第9章至21章開(kāi)始重點(diǎn)闡述軟件中的反演工程、提取光學(xué)常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實(shí)際相結(jié)合，從而使大家將理論知識(shí)與實(shí)際經(jīng)驗(yàn)結(jié)合起來(lái)，對(duì)實(shí)際鍍膜提出實(shí)用的建議，以減少設(shè)計(jì)時(shí)間并降低生產(chǎn)成本。
薄膜光學(xué)涵蓋范圍很廣，書(shū)中并附設(shè)計(jì)光盤(pán)和參考文獻(xiàn)，有興趣者可依此深入研究，為精準(zhǔn)起見(jiàn)，在不影響理解的情況下，盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書(shū)能夠?qū)氖卤∧ば袠I(yè)的人員有所幫助，通過(guò)學(xué)習(xí)之后能夠較好地完成其所承擔(dān)的光學(xué)任務(wù)。然而由于個(gè)人能力之局限，書(shū)中錯(cuò)誤紕漏之處在所難免，本書(shū)若有不周之處，尚請(qǐng)讀者不吝賜教。
目錄
Preface 1
內(nèi)容簡(jiǎn)介 2
目錄 i
1 引言 1
2 光學(xué)薄膜基礎(chǔ) 2
2.1 一般規(guī)則 2
2.2 正交入射規(guī)則 3
2.3 斜入射規(guī)則 6
2.4 精確計(jì)算 7
2.5 相干性 8
2.6 參考文獻(xiàn) 10
3 Essential Macleod的快速預(yù)覽 10
4 Essential Macleod的特點(diǎn) 32
4.1 容量和局限性 33
4.2 程序在哪里？ 33
4.3 數(shù)據(jù)文件 35
4.4 設(shè)計(jì)規(guī)則 35
4.5 材料數(shù)據(jù)庫(kù)和資料庫(kù) 37
4.5.1材料損失 38
4.5.1材料數(shù)據(jù)庫(kù)和導(dǎo)入材料 39
4.5.2 材料庫(kù) 41
4.5.3導(dǎo)出材料數(shù)據(jù) 43
4.6 常用單位 43
4.7 插值和外推法 46
4.8 材料數(shù)據(jù)的平滑 50
4.9 更多光學(xué)常數(shù)模型 54
4.10 文檔的一般編輯規(guī)則 55
4.11 撤銷(xiāo)和重做 56
4.12 設(shè)計(jì)文檔 57
4.10.1 公式 58
4.10.2 更多關(guān)于膜層厚度 59
4.10.3 沉積密度 59
4.10.4 平行和楔形介質(zhì) 60
4.10.5 漸變折射率和散射層 60
4.10.4 性能 61
4.10.5 保存設(shè)計(jì)和性能 64
4.10.6 默認(rèn)設(shè)計(jì) 64
4.11 圖表 64
4.11.1 合并曲線(xiàn)圖 67
4.11.2 自適應(yīng)繪制 68
4.11.3 動(dòng)態(tài)繪圖 68
4.11.4 3D繪圖 69
4.12 導(dǎo)入和導(dǎo)出 73
4.12.1 剪貼板 73
4.12.2 不通過(guò)剪貼板導(dǎo)入 76
4.12.3 不通過(guò)剪貼板導(dǎo)出 76
4.13 背景 77
4.14 擴(kuò)展公式-生成設(shè)計(jì)(Generate Design) 80
4.15 生成Rugate 84
4.16 參考文獻(xiàn) 91
5 在Essential Macleod中建立一個(gè)Job 92
5.1 Jobs 92
5.2 創(chuàng)建一個(gè)新Job（工作） 93
5.3 輸入材料 94
5.4 設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)文件夾 95
5.5 默認(rèn)設(shè)計(jì) 95
6 細(xì)化和合成 97
6.1 優(yōu)化介紹 97
6.2 細(xì)化 (Refinement) 98
6.3 合成 (Synthesis) 100
6.4 目標(biāo)和評(píng)價(jià)函數(shù) 101
6.4.1 目標(biāo)輸入 102
6.4.2 目標(biāo) 103
6.4.3 特殊的評(píng)價(jià)函數(shù) 104
6.5 層鎖定和連接 104
6.6 細(xì)化技術(shù) 104
6.6.1 單純形 105
6.6.1.1 單純形參數(shù) 106
6.6.2 最佳參數(shù)(Optimac) 107
6.6.2.1 Optimac參數(shù) 108
6.6.3 模擬退火算法 109
6.6.3.1 模擬退火參數(shù) 109
6.6.4 共軛梯度 111
6.6.4.1 共軛梯度參數(shù) 111
6.6.5 擬牛頓法 112
6.6.5.1 擬牛頓參數(shù)： 112
6.6.6 針合成 113
6.6.6.1 針合成參數(shù) 114
6.6.7 差分進(jìn)化 114
6.6.8非局部細(xì)化 115
6.6.8.1非局部細(xì)化參數(shù) 115
6.7 我應(yīng)該使用哪種技術(shù)？ 116
6.7.1 細(xì)化 116
6.7.2 合成 117
6.8 參考文獻(xiàn) 117
7 導(dǎo)納圖及其他工具 118
7.1 簡(jiǎn)介 118
7.2 薄膜作為導(dǎo)納的變換 118
7.2.1 四分之一波長(zhǎng)規(guī)則 119
7.2.2 導(dǎo)納圖 120
7.3 用Essential Macleod繪制導(dǎo)納軌跡 124
7.4 全介質(zhì)抗反射薄膜中的應(yīng)用 125
7.5 斜入射導(dǎo)納圖 141
7.6 對(duì)稱(chēng)周期 141
7.7 參考文獻(xiàn) 142
8 典型的鍍膜實(shí)例 143
8.1 單層抗反射薄膜 145
8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
8.4 W-膜層 148
8.5 V-膜層 149
8.6 V-膜層高折射基底 150
8.7 V-膜層高折射率基底b 151
8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜層 152
8.9 四層抗反射薄膜 153
8.10 Reichert抗反射薄膜 154
8.11 可見(jiàn)光和1.06 抗反射薄膜 155
8.12 六層寬帶抗反射薄膜 156
8.13 寬波段八層抗反射薄膜 157
8.14 寬波段25層抗反射薄膜 158
8.15十五層寬帶抗反射膜 159
8.16 四層2-1 抗反射薄膜 161
8.17 1/4波長(zhǎng)堆棧 162
8.18 陷波濾波器 163
8.19 厚度調(diào)制陷波濾波器 164
8.20 褶皺 165
8.21 消偏振分光器1 169
8.22 消偏振分光器2 171
8.23 消偏振立體分光器 172
8.24 消偏振截止濾光片 173
8.25 立體偏振分束器1 174
8.26 立方偏振分束器2 177
8.27 相位延遲器 178
8.28 紅外截止器 179
8.29 21層長(zhǎng)波帶通濾波器 180
8.30 49層長(zhǎng)波帶通濾波器 181
8.31 55層短波帶通濾波器 182
8.32 47 紅外截止器 183
8.33 寬帶通濾波器 184
8.34 誘導(dǎo)透射濾波器 186
8.35 誘導(dǎo)透射濾波器2 188
8.36 簡(jiǎn)單密集型光波復(fù)用（DWDM）濾波器 190
8.37 高級(jí)密集型光波復(fù)用技術(shù)（DWDM）濾波器 192
8.35 增益平坦濾波器 193
8.38 啁啾反射鏡 1 196
8.39 啁啾反射鏡2 198
8.40 啁啾反射鏡3 199
8.41 帶保護(hù)層的鋁膜層 200
8.42 增加鋁反射率膜 201
8.43 參考文獻(xiàn) 202
9 多層膜 204
9.1 多層膜基本原理—堆棧 204
9.2 內(nèi)部透過(guò)率 204
9.3 內(nèi)部透射率數(shù)據(jù) 205
9.4 實(shí)例 206
9.5 實(shí)例2 210
9.6 圓錐和帶寬計(jì)算 212
9.7 在Design中加入堆棧進(jìn)行計(jì)算 214
10 光學(xué)薄膜的顏色 216
10.1 導(dǎo)言 216
10.2 色彩 216
10.3 主波長(zhǎng)和純度 220
10.4 色相和純度 221
10.5 薄膜的顏色和最佳顏色刺激 222
10.6 色差 226
10.7 Essential Macleod中的色彩計(jì)算 227
10.8 顏色渲染指數(shù) 234
10.9 色差計(jì)算 235
10.10 參考文獻(xiàn) 236
11 鍍膜中的短脈沖現(xiàn)象(Short-Pluse Phenomena) 238
11.1 短脈沖 238
11.2 群速度 239
11.3 群速度色散 241
11.4 啁啾(chirped) 245
11.5 光學(xué)薄膜—相變 245
11.6 群延遲和延遲色散 246
11.7 色度色散 246
11.8 色散補(bǔ)償 249
11.9 空間光線(xiàn)偏移 256
11.10 參考文獻(xiàn) 258
12 公差與誤差 260
12.1 蒙特卡羅模型 260
12.2 Essential Macleod 中的誤差分析工具 267
12.2.1 誤差工具 267
12.2.2 靈敏度工具 271
12.2.2.1 獨(dú)立靈敏度 271
12.2.2.2 靈敏度分布 275
12.2.3 Simulator—更高級(jí)的模型 276
12.3 參考文獻(xiàn) 276
13 Runsheet 與Simulator 277
13.1 原理介紹 277
13.2 截止濾光片設(shè)計(jì) 277
14 光學(xué)常數(shù)提取 289
14.1 介紹 289
14.2 電介質(zhì)薄膜 289
14.3 n 和k 的提取工具 295
14.4 基底的參數(shù)提取 302
14.5 金屬的參數(shù)提取 306
14.6 不正確的模型 306
14.7 參考文獻(xiàn) 311
15 反演工程 313
15.1 隨機(jī)性和系統(tǒng)性 313
15.2 常見(jiàn)的系統(tǒng)性問(wèn)題 314
15.3 單層膜 314
15.4 多層膜 314
15.5 含義 319
15.6 反演工程實(shí)例 319
15.6.1 邊緣濾波片的逆向工程 320
15.6.2 反演工程提取折射率 327
16 應(yīng)力、張力、溫度和均勻性工具 329
16.1 光學(xué)性質(zhì)的熱致偏移 329
16.2 應(yīng)力工具 335
16.3 均勻性誤差 339
16.3.1 圓錐工具 339
16.3.2 波前問(wèn)題 341
16.4 參考文獻(xiàn) 343
17 如何在Function（模塊）中編寫(xiě)操作數(shù) 345
17.1 引言 345
17.2 操作數(shù) 345
18 如何在Function中編寫(xiě)腳本 351
18.1 簡(jiǎn)介 351
18.2 什么是腳本？ 351
18.3 Function中腳本和操作數(shù)對(duì)比 351
18.4 基礎(chǔ) 352
18.4.1 Classes（類(lèi)別） 352
18.4.2 對(duì)象 352
18.4.3 信息（Messages） 352
18.4.4 屬性 352
18.4.5 方法 353
18.4.6 變量聲明 353
18.5 創(chuàng)建對(duì)象 354
18.5.1 創(chuàng)建對(duì)象函數(shù) 355
18.5.2 使用ThisSession和其它對(duì)象 355
18.5.3 丟棄對(duì)象 356
18.5.4 總結(jié) 356
18.6 腳本中的表格 357
18.6.1 方法1 357
18.6.2 方法2 357
18.7 2D Plots in Scripts 358
18.8 3D Plots in Scripts 359
18.9 注釋 360
18.10 腳本管理器調(diào)用Scripts 360
18.11 一個(gè)更高級(jí)的腳本 362
18.12 <esc>鍵 364
18.13 包含文件 365
18.14 腳本被優(yōu)化調(diào)用 366
18.15 腳本中的對(duì)話(huà)框 368
18.15.1 介紹 368
18.15.2 消息框-MsgBox 368
18.15.3 輸入框函數(shù) 370
18.15.4 自定義對(duì)話(huà)框 371
18.15.5 對(duì)話(huà)框編輯器 371
18.15.6 控制對(duì)話(huà)框 377
18.15.7 更高級(jí)的對(duì)話(huà)框 380
18.16 Types語(yǔ)句 384
18.17 打開(kāi)文件 385
18.18 Bags 387
18.13 進(jìn)一步研究 388
19 vStack 389
19.1 vStack基本原理 389
19.2 一個(gè)簡(jiǎn)單的系統(tǒng)——直角棱鏡 391
19.3 五棱鏡 393
19.4 光束距離 396
19.5 誤差 399
19.6 二向分色棱鏡 399
19.7 偏振泄漏 404
19.8 波前誤差—相位 405
19.9 其它計(jì)算參數(shù) 405
20 報(bào)表生成器 406
20.1 入門(mén) 406
20.2 指令(Instructions) 406
20.3 頁(yè)面布局指令 406
20.4 常見(jiàn)的參數(shù)圖和三維圖 407
20.5 表格中的常見(jiàn)參數(shù) 408
20.6 迭代指令 408
20.7 報(bào)表模版 408
20.8 開(kāi)始設(shè)計(jì)一個(gè)報(bào)表模版 409
21 一個(gè)新的project 413
21.1 創(chuàng)建一個(gè)新Job 414
21.2 默認(rèn)設(shè)計(jì) 415
21.3 薄膜設(shè)計(jì) 416
21.4 誤差的靈敏度計(jì)算 420
21.5 顯色指數(shù)計(jì)算 422
21.6 電場(chǎng)分布 424
后記 426
